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PECVD氣體及流量控制系統(tǒng)中質(zhì)量流量控制器的應用

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發(fā)表于 2025-3-26 10:37:13 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
在半導體制造行業(yè),精密工藝控制對于確保產(chǎn)品質(zhì)量和提升生產(chǎn)效率非常重要。等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術作為一項關鍵技術,在薄膜沉積工藝中扮演著重要角色。通過利用等離子體中的活性粒子促進化學反應,PECVD能夠在相對低溫的環(huán)境下生成高質(zhì)量的薄膜。然而,該過程對氣體流量的精確調(diào)控要求極高。在這種情況下,MFC2000系列氣體質(zhì)量流量控制器憑借其卓越的精度、穩(wěn)定性及強大的控制能力,成為半導體PECVD工藝不可或缺的一部分。
在PECVD工藝流程中,MFC設備能夠精準地測量并調(diào)整進入反應室的氣體流量,保證反應氣體供給的準確性。這對于控制薄膜厚度、均勻性以及提高沉積速率尤為關鍵。MFC采用先進的流量傳感技術和比例閥控制技術,實現(xiàn)了對氣體流量的精細調(diào)節(jié)。它能實時監(jiān)控流體流量的變化,確保PECVD過程的穩(wěn)定性和一致性,有助于及時識別并解決潛在的設備問題,保障設備長期穩(wěn)定運行。
、PECVD 基本原理
在低氣壓下,利用低溫等離子體*在工藝腔體陰極產(chǎn)生輝光放電,通過輝光放電或加熱體使襯底升溫至預定溫度,通入適量工藝氣體,經(jīng)化學反應和等離子體反應在樣品表面形成固態(tài)薄膜。
低溫等離子體*,指包括電子、各種離子、原子和自由基的混合體,體系中物質(zhì)非完全電離,電子溫度遠高于離子溫度,但宏觀表現(xiàn)上溫度相對較低,總體處于非熱平衡狀態(tài),故又稱為非平衡態(tài)等離子體。
反應過程中,氣體從進氣口進入工藝腔體擴散至襯底表面,在射頻源激發(fā)的電場作用下分解成電子、離子和自由基等,發(fā)生化學反應生成形成膜的初始成分和副反應物,以化學鍵形式吸附到襯底表面形成晶核,晶核生長成島狀物再形成連續(xù)薄膜,副產(chǎn)物從膜表面脫離并在真空泵作用下排出。
、PECVD 基本分類
按照等離子體發(fā)生的頻率來分,PECVD 中所用的等離子體可以分為射頻等離子體(Radio Frequency Plasma)和微波等離子體(Microwave Plasma)兩種。目前,業(yè)界所用的射頻頻率一般為 13.56MHz。射頻等離子耦合方式通常分為電容耦合(CCP)和電感耦合(ICP) 兩種。

目前 PECVD 主要應用雙頻電源,由 400kHz 和 13.56MHz 構成,兩個電源最高功率均為 3000W。相比于單一電源,高頻和低頻相結(jié)合的雙頻驅(qū)動可以顯著地降低啟輝電壓,更有利于獲得穩(wěn)定的等離子體源,減弱帶電粒子對沉積襯底的轟擊及額外損傷,提高了工藝自由度。雙頻電源系統(tǒng)可選工作模式:①高低頻同時作用于反應室,高頻為主,低頻調(diào)制為輔;②高低頻交替作用于反應室,可以快速切換;③高低頻單獨作用于反應室,獨立控制工作。
PECVD 基本結(jié)構


1)真空和壓力控制系統(tǒng):包括機械泵、分子泵、真空閥、真空計等。為減少氮氣、氧氣及水蒸氣影響,采用干泵和分子泵抽氣,干泵抽低真空避免油氣污染基片,分子泵抽高真空,除水蒸氣能力強。
2)淀積系統(tǒng):由射頻電源、水冷系統(tǒng)、襯底加熱器等組成,是 PECVD 的核心部分。射頻電源使反應氣體離子化,水冷系統(tǒng)為泵提供冷卻并在超溫時報警,冷卻水管路采用絕緣材料。加熱器使襯底升溫除雜質(zhì),提高薄膜與襯底的附著力。
3)氣體及流量控制系統(tǒng):氣源由氣體鋼瓶供氣,經(jīng)氣柜輸送至工藝腔體,采用質(zhì)量流量控制器精確控制氣體流量。
下面來自ISweek工采網(wǎng)代理美國SIARGO的一款高精度,量程范圍寬可選的MEMS氣體質(zhì)量流量控制器MFC2000系列。
MFC2000系列質(zhì)量流量控制器采用公司專有的MEMS Thermal-D操作TM熱量傳感技術與智能控制電子設備,這種獨特的質(zhì)量流量傳感技術消除了一些擴散率相似的氣體的氣體敏感性,并允許在編程后進行氣體識別。本產(chǎn)品可用干動態(tài)范圍為100:1的過程控制,其控制范圍為0.1至0.8MPa(15至120 PSL)的壓力和0至50℃的補償溫度。量程在50mL/min到200L/min不同范圍可選,帶有數(shù)字RS485 Modbus通信和模擬輸出。

該產(chǎn)品的設計便于更換機械連接器,標準連接器可選雙卡套、VCR或UNF,其他定制連接器可根據(jù)要求提供。SIARGO的MFC2000質(zhì)量流量控制器在PECVD設備中具有很重要的作用,可以精準測量和控制氣體流量的大小。

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    2024-10-16 16:53
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    發(fā)表于 2025-3-26 11:26:03 | 只看該作者
    這個帖子對我?guī)椭艽?,謝謝!
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    發(fā)表于 2025-3-26 16:27:55 | 只看該作者
    這個問題我也在思考,你的回答很全面。
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    發(fā)表于 2025-10-28 05:42:19 | 只看該作者
    受益匪淺,感謝分享,希望多交流學習經(jīng)驗。
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    2024-8-16 08:56
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    發(fā)表于 2025-11-23 08:51:26 | 只看該作者
    我贊同你的分析,邏輯很清晰。
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    2024-8-20 16:33
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    發(fā)表于 前天 09:16 | 只看該作者
    樓主對儀器校準/設備調(diào)試的經(jīng)驗總結(jié)太到位了,受益匪淺~
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    發(fā)表于 昨天 16:10 | 只看該作者
    看完討論,感覺思路開闊了許多。
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